首發(fā)19億一臺的下代EUV光刻機 Intel將派人幫助ASML加速生產(chǎn)

包括AMD及NVIDIA在內(nèi)的半導體公司都預測今年下半年全球芯片產(chǎn)能緊張的局面就會緩解，然而生產(chǎn)光刻機的ASML公司對此表示質(zhì)疑，該公司CEO Peter Wennink日前警告稱半導體芯片制造公司的生產(chǎn)計劃野心勃勃，但可能面臨設備短缺。

Peter Wennink在采訪中表示，盡管各大半導體公司投資了數(shù)十億甚至數(shù)百億美元以提高產(chǎn)能，然而他們并不可能快速提高產(chǎn)能，因為制約產(chǎn)能的還有半導體設備。

在接下來的兩年中，芯片產(chǎn)量的增長將進一步受到設備不足的限制，這都需要時間來解決。

就連ASML公司自己的光刻機生產(chǎn)都受到了限制，不過Intel CEO基辛格此前表示他們已經(jīng)派人去幫助ASML公司加速生產(chǎn)。

Intel并沒有提及他們派出多少工程師以及是怎樣幫助ASML提高光刻機產(chǎn)量的，但是他們很可能協(xié)助ASML加速新一代EUV光刻機的生產(chǎn)。

現(xiàn)在的EUV光刻機還是NA 0.33技術(shù)的，Intel的重點押注在了下一代EUV光刻機，也就是NA 0.55的ASML新一代光刻機，據(jù)說成本高達3億美元，約合19億元。

實際上4年來Intel實際上已經(jīng)下單了6臺NA 0.55的EUV光刻機，其中分為兩種，Twinscan Exe:5000系列主要用于工藝研發(fā)，產(chǎn)能輸出是185WPH，每小時生產(chǎn)185片晶圓，2023年上半年交付。

量產(chǎn)型的NA 0.55光刻機是Twinscan Exe:5200，產(chǎn)能提升到200WPH，每小時200片晶圓，預計會在2024年下線，Intel的20A工藝正好是在2024年量產(chǎn)。