傳Intel 18A工藝良品率不佳 量產(chǎn)計(jì)劃面臨巨大障礙

最近英特爾在ISSCC 2025上，介紹了備受期待的Intel 18A工藝技術(shù)，其中強(qiáng)調(diào)了SRAM密度的重大改進(jìn)。同時(shí)在官網(wǎng)更新了Intel 18A工藝的信息，表示已經(jīng)為客戶項(xiàng)目做好準(zhǔn)備，將于2025年上半年開(kāi)始流片。為了在Intel 18A工藝上爭(zhēng)取更多外部客戶訂單，英特爾可以說(shuō)在營(yíng)銷(xiāo)上做足了功夫。

據(jù)媒體報(bào)道，目前首批采用Intel 18A工藝的Panther Lake工程樣品正在由主要PC ODM/EMS制造商進(jìn)行測(cè)試。初步的調(diào)查顯示，Intel 18A工藝的良品率僅在20%至30%之間，還有很大的提升空間，現(xiàn)階段幾乎不可能大規(guī)模生產(chǎn)。按照英特爾的計(jì)劃，Intel 18A工藝將在2025年下半年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，但是以現(xiàn)在的進(jìn)度，很可能難以實(shí)現(xiàn)既定目標(biāo)。

除了Panther Lake外，Clearwater Forest和Diamond Rapids都會(huì)采用Intel 18A工藝，另外美國(guó)國(guó)防部、亞馬遜AWS和微軟Azure也將使用該制程節(jié)點(diǎn)。如果Intel 18A工藝的良品率問(wèn)題得不到解決，不但自己的產(chǎn)品受到影響，也將對(duì)合作伙伴造成困擾。

不過(guò)英特爾也有好消息，傳聞早期測(cè)試中，High-NA EUV光刻機(jī)的可靠性比前代產(chǎn)品高出一倍，一個(gè)季度內(nèi)已經(jīng)加工了3萬(wàn)片晶圓。同時(shí)英特爾還將處理過(guò)程從三次曝光和40個(gè)步驟減少到一次曝光和個(gè)位數(shù)步驟，節(jié)省了時(shí)間和成本。英特爾計(jì)劃使用High-NA EUV光刻機(jī)來(lái)開(kāi)發(fā)Intel 18A技術(shù)，為下一代Intel 14A全面部署這些機(jī)器做好準(zhǔn)備。